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近日，由杭州镓仁半导体有限公司牵头的《β相氧化镓同质外延片》（T/CEMIA 050-2025）与《氧化镓单晶位错密度测试方法》（T/CEMIA 051-2025）两项团体标准，经中国电子材料行业协会批准正式发布，将于2026 年1月1日起全面实施。这是我国在第四代半导体材料领域标准化建设的重大突破，标志着氧化镓产业从技术研发向规模化应用迈出关键一步。

《β相氧化镓同质外延片》（T/CEMIA 050-2025）的牵头单位为杭州镓仁半导体有限公司。其它参编单位有中国电子科技集团公司第四十六研究所、中国科学技术大学、中国电子科技集团公司第十三研究所、西安电子科技大学、南京大学、中山大学、甬江实验室、浙江大学、浙江大学杭州国际科创中心、杭州富加镓业科技有限公司、进化半导体有限公司、深圳平湖实验室、华润微电子有限公司、NEXTGO EPI UG、电子科技大学、安徽大学、厦门大学、中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所、镓创未来半导体科技(晋江)有限公司、大连理工大学、中国科学院东莞材料科学与技术研究院、湖北九峰山实验室、杭州芯创德半导体有限公司、西南大学、香港科技大学。

《氧化镓单晶位错密度测试方法》（T/CEMIA 051-2025）的牵头单位为杭州镓仁半导体有限公司。其它参编单位有中国电子科技集团公司第四十六研究所、中国科学技术大学、中国电子科技集团公司第十三研究所、西安电子科技大学、南京大学、中山大学、甬江实验室、浙江大学、浙江大学杭州国际科创中心、杭州富加镓业科技有限公司、进化半导体有限公司、深圳平湖实验室、华润微电子有限公司、NEXTGO EPI UG、电子科技大学、安徽大学、厦门大学、中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所、镓创未来半导体科技(晋江)有限公司、大连理工大学、中国科学院东莞材料科学与技术研究院、湖北九峰山实验室、杭州芯创德半导体有限公司、西南大学、香港科技大学。

这两项由中国电子材料行业协会发布的氧化镓领域团体标准，将为β相氧化镓同质外延片的质量管控与氧化镓单晶位错密度的统一测试提供依据。标准的落地将推动氧化镓从实验室走向规模化生产，为我国在超宽禁带半导体赛道建立技术与产业优势奠定基础，助力实现 “超宽禁带半导体之王” 的产业化价值释放，支撑国家新能源与高端制造战略。