在2025年3月举行的SEMICON China上，涉足广泛半导体制造设备的北方华创（NAURA）和新凯来技术（SiCarrier）的展台前挤满了人（图片：日经XTECH）
以中美对立为契机，中国半导体制造设备的自产化正在加速。北方华创科技集团（NAURA）和新凯来技术（SiCarrier）等设备制造商已开始推出能支持接近最尖端的制造技术的设备。有分析认为，在半导体存储器大企业长江存储科技（YMTC）2024年引进的设备中，中国造的占比超过6成。中国企业与美国和日本设备大企业的实力差距今后有可能迅速缩小。
观众数达到SEMICON Japan的近2倍
人、人、人……全球最大规模半导体制造设备和材料相关展会“SEMICON China”于2025年3月26日至28日在上海举行。展会期间吸引了超过18万观众参与。与上一年相比增加13%，达到2024年12月在日本举办的同类展会“SEMICON Japan”的约10万人的近2倍。
展会首日的会场入口附近排起了长队（图片：日经XTECH）
日本有尼康、佳能和半导体清洗设备大企业Screen Holdings等多家企业参展。其中，半导体测试设备的世界最大企业日本爱德万测试（ADVANTEST）的经营执行董事中原真人表示，“今年来自日本的分析师和媒体人士之多令人印象深刻”，指出海外对SEMICON China的关注度正在提高。
长江存储引进的制造设备65%为中国造
受到关注的背后存在中美对立的激化。自2018年以来，美国政府不断加强针对中国高科技的限制。从拜登前政府时期的2023年开始，美国就与日本和荷兰联手，禁止向中国出口制造尖端半导体所需的EUV（极紫外）光刻设备和蚀刻设备等。目的是防止有助于中国军事力量加强的AI（人工智能）半导体等的自产化。
这种限制在使中国制造尖端半导体变得困难的同时，也在加速接近最尖端的准尖端半导体的中国的自产化。在SEMICON China的开幕式上发表演讲的武汉大学教授刘胜分析称，截至2024年，长江存储在自家工厂引进的制造设备中，65%为中国制造。长江存储是生产NAND闪存的大型企业，属于日本铠侠控股(Kioxia Holdings)等的竞争对手。
除了长江存储和中芯国际集成电路制造（SMIC）等中国企业外，三星电子和SK海力士等韩国企业也正在中国建设半导体工厂（图片：日经XTECH根据SEMI的资料制作）
NAND的制造无需使用EUV光刻机，即使是准尖端的设备也能制造出接近最尖端的产品。除了必须用到EUV光刻机的最尖端逻辑半导体之外，中国的半导体制造供应链正在稳步完善。
北方华创瞄准6nm制程工艺
在SEMICON China展会现场彰显存在感的是拥有可应对广泛制造工序的产品群的制造商。以中国最大的半导体制造设备企业北方华创为代表，新兴的新凯来、北京中电科电子装备（CETC Electronics Equipment Group）、北京镁伽机器人科技（MEGAROBO Technologies）等纷纷宣传新产品群。
北方华创是2001年成立的中国政府旗下企业，涉足从蚀刻到成膜、清洗、扩散等广泛的制造设备。加拿大调查公司TechInsights的数据显示，在2023年半导体制造设备的销售额排名中，北方华创排在第10位。作为中国的半导体制造设备企业首次跻身前10名。
该公司不仅涉足前工序，还涉足后工序用设备，提供2.5D/3D封装用的蚀刻设备和PVD（物理气相沉积）设备。特点是产品种类繁多，令人联想到美国Applied Materials（应用材料公司）和日本Tokyo Electron。
北方华创的展台连日来人山人海，令现场观众目不转睛的是在展台内播放的视频。内容是面向6nm芯片的制程技术。通过利用多次重复光刻和蚀刻的多重光刻，可以在没有EUV光刻的情况下形成细微的图案。
北方华创采用的是被称为“自对准四重图案化(SAQP)”的技术，通过自对准工艺形成密度达到最初光刻的图案4倍的布线图案。与EUV光刻相比，制程复杂，良品率容易下降，但仍是避免使用EUV光刻的一种选择。该公司宣传称，通过使用自己的蚀刻设备，可以缓解制程的复杂性。
北方华创的展位以展板形式展示了尖端后工序和功率半导体设备等，吸引了众多关注(图片来源：日经XTECH)
新凯来挑战日美企业的垄断地位
新凯来虽然是2021年成立的新兴公司，但已拥有刻蚀设备、成膜设备、退火(热处理)设备、测量设备等广泛的产品群。由于该公司首次参加SEMICON China，因此受到了高度关注。该公司与致力于自主生产尖端半导体的华为也有合作关系。公司总部位于深圳市，在上海市和北京市等地拥有研发中心。
新凯来瞄准的领域之一是TOKYO ELECTRON和美国泛林集团(Lam Research)激烈竞争的最尖端刻蚀领域。该公司开发出了面向尖端逻辑半导体和3D NAND的高选择性刻蚀设备“武夷山5号”。高选择性刻蚀不仅可以沿垂直方向，还能沿水平方向高精度地刻蚀3D结构的晶体管。2023年，该公司与华为共同获得了使用SAQP方式制造5nm工艺半导体的技术专利。
据中国经济媒体钜亨网和《日经亚洲（NIKKEI Asia）》报道，新凯来还开发出了支持28nm工艺的半导体光刻设备。不过，在SEMICON China上并未以展板形式展示光刻设备。
新凯来在研讨会上发表演讲，介绍了深圳总部的外观等 (图片：日经XTECH)
北京中电科电子装备(CETC Electronics Equipment Group)以展板形式介绍了支持离子注入、CMP(化学机械抛光)、涂胶显影、刻蚀、清洗、切割等的广泛产品群。该公司作为政府旗下中国电子科技集团(CETC)的子公司，于2013年成立。
主要客户包括华为、中芯国际(SMIC)、华虹集团等。该公司还向政府旗下的中国兵器工业集团和中国兵器装备集团供应设备。
特色业务之一是半导体光刻设备的改造和翻新。该公司为荷兰阿斯麦（ASML）控股、尼康和佳能的i线光刻设备和DUV(深紫外)光刻设备提供服务。
中国或已触及EUV光刻设备
据推测，中国也在寻求自主生产被禁止进口的EUV光刻设备。实际上，在SEMICON China会场就看到了暗示EUV光刻相关供应链存在的展示。
从事半导体材料的中国杭州科百特过滤器材(Cobetter)展示了面向EUV光刻设备的光刻胶过滤器。该过滤器用于去除光刻胶(感光剂)中的颗粒。据负责人介绍，中国国内存在客户。
杭州科百特过滤器材展示了光刻胶过滤器 (图片：日经XTECH)
中国企业开始涉足尖端封装
在半导体行业，作为取代微细化提高半导体性能的手段，正在开发尖端封装。在SEMICON China上也可以看到中国企业的相关展示。中国企业不仅在前工序，在后工序也逐渐提高影响力。
目前中国也新建了很多半导体工厂。中芯国际旗下企业正在推进逻辑半导体工厂的建设，长江存储也正在安徽省合肥市总部附近建设NAND工厂。
TOKYO ELECTRON和SCREEN控股等日本设备企业的销售额中，面向中国的比例高达3～4成。在实力增强的中国企业全面扩大市场之前，日本企业也需要采取应对措施。
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